特征
CHEMIFLEX L,是绝缘层为LCP(液晶聚合物)50μm薄膜、铜箔为18μm平滑压延材料(粗面化不做表面处理)、无粘结剂制板的挠性覆铜板(Flexible Copper Clad Laminate)。
● 在射频领域的传输损耗小
● 吸湿率低,吸湿后不会产生特性下降
● 尺寸安定性出类拔萃
● 尽管使用的是粗面化不做表面处理的延压铜箔,也有足够的铜箔剥离强度
● 对耐折性(弯曲性)要求严格的可穿戴式终端等,也都拥有出类拔萃的特性。
CHEMIFLEX L的构成
双面铜箔FCCL

单面铜箔FCCL


CHEMIFLEX L 的射频传输特性

测量装置
制造商
规格型号 : E8363B
测试频率 : 10M – 40GHz
测试点 : 4,000
测量探针 : 单极 Single GSG250 of CascadeMicrotec

E8363B
前处理条件
常态 : 23℃, 50%RH for 48 hours
吸湿 : Immersed in 23℃ water for 48 hours
射频测定用试验片的截面图

导通孔部的放大图片

×200

×400
射频测试用试验片的制作流程

CHEMIFLEX L的特性
各照片显示的是在实际测试中使用的东西。
表面层的绝缘电阻及耐压试验片

带有覆盖膜的聚酰亚胺薄膜

没有覆盖膜
耐折性试验片


(曲折部位放大)
绝缘电阻测试用试验片的制作流程
